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光學膜厚儀的主要特點和應用

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光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及n&k,采用r-θ極坐標移動平臺,可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度,可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式,也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸,盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換,匹配當前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。
 
光學膜厚儀的主要特點:
*基片折射率和消光系數(shù)測量;
*薄膜厚度測量,平均值和標準偏差分析;
*薄膜折射率和消光系數(shù)測量;
*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片;
*測試數(shù)據(jù)輸出和加載;
*直接Patterned或特征機構(gòu)的試樣測試;
*可用于實時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測;
*波長范圍可選;
*系統(tǒng)配備強大的光學常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫,便于測試和數(shù)據(jù)分析。
 
光學膜厚儀廣泛應用于各種薄膜、涂層光學常數(shù)和厚度的測量,設備分為在線和離線兩種工作模式,操作便捷,幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析,USB 連接計算機控制;
薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、且快速的光學薄膜厚度測量技術(shù),我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

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